【半導体】JSRとimec、EUVフォトレジスト製造ラインを完成

　JSR(株)とナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関であるimec（社長：Luc Van den Hove）が2015年末にベルギーに設立した合弁会社「EUV Resist Manufacturing & Qualification Center N.V.（EUV RMQC）」のEUVフォトレジスト製造設備がこの度完成した。この新施設はクリーンルーム環境下で、4台の量産タンクが設置されており、訓練されたスタッフにより運営される。
　EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術は、「ムーアの法則」で表される半導体の微細化・集積度向上の進展を10nmより微細な世代においても推し進める主要技術の1つとして期待されている。EUV技術は半導体業界において実用化検討が加速しており、量産設備と品質保証体制の確立が必須となっている。JSRとimec両社の強みを活かして、最先端デバイスを製造する半導体産業に対してEUVリソグラフィ材料技術を提供していく。