(株)アルバックは、Oxford Instruments Plasma Technology部門と日本における販売代理店契約を締結した。GaNおよびSiCベースのワイドバンドギャップを必要とするデバイス市場のユーザーへ、Oxford社の最先端ALD成膜装置（原子層堆積装置）およびALE装置（原子層エッチング装置）の販売を開始する。
「Oxford社はアルバックとのコラボレーションにとても期待しており、実績のあるAtomic Scale Processing Solution を日本のパワーデバイスおよびRFデバイステ市場に提供していきます」とOxford Instruments Plasma Technology Managing Director Mike Gansser-Potts氏は語る。
また、アルバック執行役員電子機器事業部長 島田鉄也氏は、「非常に大きな意味をもつコラボレーションです。今回のコラボレーションでは、アルバックの保有するラインアップを補完するOxford社のALD/ALEプロセス技術とノウハウが重要です。日本国内のお客様に、より完成されたソリューション提供が可能になります」とコメント。
【Oxford社Atomic Scale Processing Solution】Oxford社のAtomic Layer Deposition（ALD）とAtomic Layer Etch（ALE）は、機能性と信頼性を兼ね備えたデバイス製造を可能にするうえで、GaNおよびSiCベースデバイスの重要プロセスステップ。ワイドバンドギャップを必要とするデバイス業界において、10年以上にわたって得られた確かな知見と専門性により、Oxford社は日本のユーザーに最先端テクノロジーを提供する体制を整えている。
Oxford 社の ALD 成膜装置
【Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited】 本社：英国。Oxford社は英国オックスフォード大学からのスピンアウト企業として1959年にオックスフォードの地で創業。3年後には世界発の超電導マグネットの製品化に成功し、以来半世紀にわたり極低温・高磁場・核磁気共鳴・X線検出技術を駆使した計測・分析装置や先端的成膜・エッチング装置等による革新的なテクノロジー・ソリューションを世界各国の企業や大学・研究所に提供している。近年、最先端技術を搭載した原子間力顕微鏡や超高感度デジタルカメラ技術でのソリューションも拡充し、物性物理・材料から生命科学や地球科学まで、幅広い分野に事業を展開している。