【ナノインプリント】産総研、スクリーン印刷を融合し、従来と同じ印刷原版を用いた原版パターンの1/30以下の細線化印刷技術を開発

国立研究開発法人 産業技術総合研究所（以下「産総研」）集積マイクロシステム研究センター（研究センター長 廣島 洋）マルチスケール機能化表面研究チーム（研究チーム長 高田尚樹）の穂苅遼平研究員、栗原一真主任研究員は、ナノインプリントとスクリーン印刷を融合し、従来と同じ印刷原版を用いて、原版パターンの1/30以下に細線化できる超微細印刷技術を開発した。
　この技術は、低コストでナノメートルサイズの構造を成形加工できるナノインプリント技術によりフィルム表面に微細な凹凸構造を形成し、微細間隙に生じる毛細管力を利用して、機能性インクを間隙の中に閉じ込め、従来の印刷技術では困難な高アスペクト比の厚膜印刷ができる。
　スクリーン印刷では、微細パターンを印刷するために開口パターンを微細化すると、原版部でのインク詰まりが避けられない。今回開発した技術では、原版の開口パターンを微細化しなくても微細なパターンを印刷できるため、高精細パターン印刷の量産性向上が期待できる。また、高アスペクト比で超微細なパターンが印刷できるため、抵抗が低く、透明性は高い配線を形成できる。

　　　　　
　　　　従来技術（左）と今回開発した技術（右）で印刷したパターン
　　インク滲み・拡がりを防いで高いアスペクト比を保ち、フィルムの透明性も向上している（右）

　この技術は、近年注目されている自由曲面で透明なタッチパネルの配線への応用が期待でき、さらには次世代加飾技術などへの応用も期待される。なお、2016年9月14～16日にパシフィコ横浜で開催されるMEMSセンシング＆ネットワークシステム展2016の産総研ブース（P－9）にて、今回開発した技術を用いた開発品が展示される。