【ダブルデッカー型シルセスキオキサンおよびこれを用いた低誘電・高耐熱樹脂】JNC、日本材料技研とライセンス契約締結

　JNC（株）はこのたび日本材料技研（株）との間で、ダブルデッカー型シルセスキオキサンおよびこれを用いた低誘電・高耐熱樹脂に関し、ライセンス契約を締結した。
　ライセンス対象は、JNCが独自に開発したダブルデッカー型シルセスキオキサン注1)を基本構造とするモノマー（以下「本モノマー」）およびこれを用いたポリイミド樹脂やエポキシ樹脂など。
　本モノマーは二官能性であるため、ポリマーの主鎖にかご型シルセスキオキサン注2)を組み込むことができ、半導体封止樹脂やポリイミド樹脂のさらなる低誘電・高耐熱化につながることが期待される。
　JNCは日本材料技研に本モノマーなどの製造および販売に関する実施権を許諾し、半導体分野やディスプレイ分野で用いられる新たな材料開発に貢献していく。
注1) ダブルデッカー型シルセスキオキサン
 ダブルデッカー型シルセスキオキサンは、JNCの研究グループによって世界ではじめて合成に成功した。二官能性とすることで剛直な多面体構造をポリマー主鎖へ導入することが可能となり、ポリイミドをはじめとする各種エンジニアリングプラスチックスへの応用が期待されている。
注2) かご型シルセスキオキサン
　かご型シルセスキオキサンは、低誘電性や高耐熱性など多くの優れた特性を持つケイ素化合物。有機・無機ハイブリッド材料の無機成分として、エレクトロニクス、フォトニクス分野での応用研究が活発に行われている。